李世光
- 作品数：24 被引量：52H指数：4
- 供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项国家自然科学基金江苏省科技成果转化专项资金更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程自动化与计算机技术理学更多>>
- 一种调焦调平传感器测量装置
- 本发明公开了一种调焦调平传感器测量装置，涉及测量技术领域，用于测量带有工艺的硅片的高度形貌，该装置包括可调谐光源、测试光栅、第一成像系统、第二成像系统、参考光栅、探测器、工件台和计算机。该装置能够对于待测硅片上涂覆某种光...
- 宗明成李世光王丹魏志国武志鹏孙裕文
- 文献传递
- 一种基底三维位移测量装置、方法和系统
- 本申请实施例公开了一种基底三维位移测量装置、方法和系统，所述装置包括：固定在工件台的基底XY方向位移测量装置和基底Z方向位移测量装置，所述工件台还安装有基底和光学光栅；基底Z方向位移测量装置信号发射端将光栅像投影在基底上...
- 郭磊李世光王寅戢逸云
- 一种新型光栅尺位移测量装置
- 本发明实施例提供的一种新型光栅尺位移测量装置，包括：操作台，所述操作台包括活动部件和固定部件；光学光栅，所述光学光栅固定连接在所述活动部件或所述固定部件上；数字相机，所述数字相机固定连接在所述固定部件或所述活动部件上；光...
- 马向红李世光宗明成孟璐璐谢冬冬武志鹏
- 文献传递
- 一种平凸透镜对心安装装置
- 本发明涉及光学技术领域，尤其涉及一种平凸透镜对心安装装置，用于将平凸透镜对心安装在透镜筒内，所述安装装置包括：前定心筒，平凸透镜与前定心筒通过配合面重合保证同轴对心；后定心筒，后定心筒位于前定心筒的后方，前定心筒与后定心...
- 宗明成宋泽宇魏志国李世光
- 文献传递
- 数字光栅调焦调平传感器的工艺适应性
- 2024年
- 数字光栅位移测量技术将CMOS相机的像素阵列当作一个“数字化”的光栅,通过构造光学光栅像和数字光栅的周期差,利用微米级的光学光栅像,实现纳米级的位移测量。其可以应用于光刻机的调焦调平传感器中,结合倾斜入射的检测光路,对晶圆表面高度进行精确测量。在实际测量中,晶圆表面意外出现的图形会干扰光学光栅的反射成像,进而影响图像处理结果。针对上述问题,本文提出一种数字光栅位移测量的工艺适应性方法,以数字光栅周期为单位,对存在干扰图案时的CMOS图像进行光强重建和光强曲线恢复。该方法能在晶圆基底出现较大面积图案时表现出很好的稳定性,且可以适应多种表面缺陷,如划痕、颗粒、污渍和沟槽等。实验结果表明,经图像光强重建后,光强曲线的均方误差大幅减小,修正后的Z向测量误差在±33 nm(±3σ=±41.2 nm)以内。该方法能增强数字光栅调焦调平传感器的工艺适应性,为调焦调平方法提供技术参考。
- 曾海峰李世光李显杰
- 电子束硅片图形检测系统中的纳米级对焦控制技术被引量：3
- 2019年
- 带电粒子束成像检测技术是一种可以提供纳米级测量精度的技术,广泛应用于半导体检测中。在进行硅片检测时,要求待测硅片在扫描检测过程中一直处于电子束的焦深范围(DoF)内。本文提出一种毫米级控制范围、纳米级控制精度、高度测量时间在亚毫秒量级的粗精结合的闭环硅片高度控制技术。它的核心子系统是一套光学硅片高度测量系统,在进行粗控制时,数字相机的成像面作为一个光栅图像接收面,硅片的高度信息通过测量光栅线条在成像面上的位移获得。在接近目标高度时,数字相机的成像面作为一个虚拟的数字光栅使用。它与光学光栅图像存在一定周期差,两者构成类似机械游标卡尺的结构,本文称为光学游标卡尺,实验表明该技术可以在成像面上细分像素尺寸10×以上。当用其测量硅片高度时,粗测范围达毫米量级,粗测时间小于0. 38 ms,精测分辨率小于80 nm,精测时间小于0. 09 ms。利用该硅片高度测量系统进行硅片高度的初步闭环反馈控制,控制精度达到15 nm,在电子束硅片图形检测系统中具有广阔的应用前景。
- 郭杰李世光赵焱宗明成
- 关键词：焦深
- 以跨学科大纵深研究策源重大原始创新:新一代集成电路光刻系统突破的启示被引量：28
- 2020年
- 重大原始创新需要依托跨学科、大纵深的开创性研究拓展人类知识边界。作为国家战略科技力量的国立科研机构,在加快打造原始创新策源地、加快突破关键核心技术、努力抢占科技制高点方面,肩负重大责任和使命。文章以20世纪90年代末美国能源部国家实验室实施的新一代集成电路光刻系统重大原始创新项目为案例,通过对该项目实施过程中前瞻的战略定位、明确的顶层设计,以及高效的攻关与协同组织模式等方面的深度剖析,为进一步高效发挥国家战略科技力量,聚焦以重大需求目标为牵引的核心科学问题,建设跨学科大纵深的顶尖研究高地,形成多元主体协同创新的高效组织提供重要启示;并为我国在战略前沿推动集科学新发现、技术新轨道和产业新方向于一体的重大突破,真正打造原始创新策源地提供参考。
- 余江刘佳丽甘泉李世光张越
- 一种靶源预整形增强的极紫外光发生装置
- 本发明公开了一种靶源预整形增强的极紫外光发生装置，其中，所述极紫外光发生装置包括：真空腔，靶源发生器，靶源预整形增强器，高能发生器，能量注入器，极紫外光收集器，残余靶材收集器，其中，所述靶源预整形增强器包括：靶源运动轨迹...
- 宗明成黄有为陈浩李世光盖洪峰
- 文献传递
- 先进光刻中的聚焦控制预算(I)-光路部分被引量：4
- 2021年
- 随着大规模集成电路芯片制造的技术节点不断缩小,光刻机的聚焦控制变得尤为困难。为了保证硅片曝光的质量,需要快速、准确地将硅片在几十纳米的聚焦深度范围(DOF)内进行快速调整。因此,需要仔细分析光刻过程中导致焦点偏移或工艺窗口变化的各种因素,制定合理的聚焦控制预算,将各种误差因素控制在一定范围内。本文聚焦极紫外(EUV)光刻,综述包含EUV在内的先进光刻机中光路部分对聚焦控制有影响的各种因素,总结它们产生的原理及仿真、实验结果,为开展先进光刻聚焦控制预算研究提供参考。
- 钟志坚李琛毅李世光郭磊韦亚一
- 关键词：光刻
- 一种调焦调平测量方法及测量系统
- 本公开提供一种调焦调平测量方法及测量系统，方法包括：光学光栅经光束照明成像于被测对象表面以形成光学光栅图案，所述光学光栅图案进一步反射到光学传感器的成像平面上；对光学传感器上像素点进行编码，以实现在像素点上对光强信号的保...
- 李琛毅李世光钟志坚
