周得时
- 作品数：6 被引量：2H指数：1
- 供职机构：电子部更多>>
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- 为研制我国自己的分步光刻机(DSW)而拼搏被引量：1
- 1991年
- 分步光刻机是制作VLSI和ULSI的关健设备,是光学微细加工技术的中坚。本文概述了它的主要特点及其发展趋势,阐明了研制我国自己的分步光刻机的必要性和重要性。回顾了机电部第四十五研究所研制分步光刻机的历史进程,展望了该所“八五”、“九五”期间的研究前景。最后就如何提高我国分步光刻机的研究水平、加快研究步伐提出了建议。
- 周得时
- 关键词：VLSIULSI分步光刻机光刻机
- BG-102分步光刻机
- 李晋湘周得时段立安王志越杨建忠王作义李毅杰李勇刚等
- BG-102型分步光刻机是0.8-1微米超大规模集成电路和ASIC专用电路最关键的光刻工艺设备。它采用紫外光进行照明，将电路图形掩膜版上的图像缩小5倍投影到硅片上光刻出电路芯片，通过精密伺服系统控制的X-Y工作台实现整个...
- 关键词：
- 关键词：分步光刻机集成电路
- 弹性导轨及其精度分析被引量：1
- 1990年
- 本文论述了弹性导轨副的主要特点,介绍了它的适用范围,并结合我所研制的几种有代表性的微细加工设备,概略地介绍了它的实际应用。本文用了较大的篇幅比较详细地分析了影响弹性导轨副导向精度的主要因素,应用材料力学等方面的基础知识,推导出了弹性导轨副的一般计算公式,最后进行了误差综合。本文所得出的结果,对弹性导轨副的正确使用、设计计算和精度分析计算具有一定的参考意义。
- 周得时
- 关键词：弹性导轨导轨副微细加工
- 前苏联的微电子专用设备情况初探
- 1992年
- 本文简要介绍了前苏联微电子工业及其微电子专用设备,特别是波朗纳尔科研生产联合体在激光图形发生器、分步投影光刻机及平面电机应用等方面的技术发展状况。
- 任继东周得时
- 关键词：投影光刻机激光图形发生器
- Stepper技术的最新进展
- 1992年
- 本文从技术的角度回顾了Stepper技术发展的主要里程,综合介绍了国外一些Stepper的主要生产厂商近年来所取得的主要进展,重点介绍美国GCA公司和荷兰菲利浦公司ASML所生产的Stepper技术概况,论述了Stepper技术的发展趋势。
- 周得时
- 关键词：光刻光刻机
- 1微米分步重复投影光刻机
- 周得时段立安杨建忠庞亚军魏向荣等
- 一、成果内容简介、关键技术、技术经济指标：1、成果内容简介：该专题研究成功半导体专用设备分步重复投影光刻机。主要用于中国微电子领域的光刻工艺，用来研究和生产VLSI电路，是发展中国电子工业急需的关键工艺设备。该机的功能在...
- 关键词：
- 关键词：半导体工艺设备光刻机分步重复投影光刻机自动刻图
