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任春生

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：三束材料改性国家重点实验室更多>>
相关领域：金属学及工艺一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇等离子体
  • 1篇离子注入
  • 1篇结合力
  • 1篇溅射
  • 1篇非平衡磁控溅...
  • 1篇TIN膜
  • 1篇ICP
  • 1篇超厚
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 2篇三束材料改性...

作者

  • 2篇任春生
  • 1篇李有宏
  • 1篇龙振湖
  • 1篇马腾才
  • 1篇闫坤
  • 1篇张庆瑜
  • 1篇郭宝海

传媒

  • 1篇大连理工大学...
  • 1篇TFC’05...

年份

  • 1篇2005
  • 1篇1995
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
射频等离子体增强非平衡磁控溅射沉积技术
介绍了射频电感耦合等离子体增强非平衡磁控溅射沉积技术的原理、实验性能。并用该技术在Si基片上沉积了Cu膜,研究了所成膜的结构、表面形貌及膜成分等,分析结果表明在该条件下沉积的Cu膜致密,晶粒尺度大约在100-1000nm...
齐雪莲任春生马腾才
关键词：溅射
文献传递
动态混合高结合力超厚TiN膜被引量：1
1995年
在新型的ＭＢＭＩ多束混合注入设备中、高真空条件下，在Ｔｉ６Ａｌ４Ｖ基底上采用化学配比态的强流Ｎ￣＋离子束，动态混合真空弧Ｔｉ等离子体束的沉积膜，得到高结合力（Ｌ＿ｃ：１００Ｎ）超厚（１０～３０μｍ）的ＴｉＮ膜。
龙振湖任春生闫坤郭宝海李有宏张庆瑜薛恒春潘曼云
关键词：等离子体离子注入氮化钛
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共1页<1>
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