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化学气相沉积法制备碳纳米管有序阵列被引量：2: 2008年; 采用化学气相沉积法(CVD)在覆盖有催化剂薄膜的硅片表面直接制备出碳纳米管阵列,使用透射电镜(TEM)和场发射扫描电镜(FESEM)对其进行了检测,并探讨了实验条件对碳管形貌的影响。结果表明:所制备的碳管具有明显的取向性,能够形成致密有序的碳纳米管阵列;制备催化剂所用的硝酸铁溶液浓度为2 mol/L时,最适宜碳管阵列的生长;匀胶机的转速提高,可减小催化剂颗粒直径,增强颗粒分散性,有利于碳管生长;碳纳米管的直径随反应温度的升高和时间的延长而增加,680℃为最佳反应温度;碳管生长模式为顶部生长和底部生长。; 林青贺琪; 关键词：碳纳米管阵列化学气相沉积法

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贺琪