万小波
- 作品数：41 被引量：119H指数：7
- 供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划中国工程物理研究院科学技术发展基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：化学工程理学核科学技术金属学及工艺更多>>
- 可加工疏水SiO_2气凝胶的制备及表征(英文)
- 2008年
- 介绍了一种基于正硅酸乙酯(TEOS)的疏水SiO2气凝胶的制备及其表征方法。结果表明,最后制备的气凝胶具有一定塑性,可进行机械加工。
- 张林任洪波张勇万小波修鹏杜爱明
- 关键词：可加工
- 亚硫酸盐制备微型金空腔工艺的研究
- 本文介绍了以亚硫酸铵溶液为附加盐的镀金液制备高质量的惯性约束聚变(ICF)微型金腔的工艺条件和方法.研究了主盐浓度、温度、阴极电流密度、pH值等因素对镀液的电流效率、沉积速度和镀层质量的影响.确定工艺条件为:主盐浓度25...
- 周兰万小波肖江张伟任洪波
- 关键词：电镀
- 小角X光散射法测定疏水二氧化硅气凝胶疏水层厚度
- 2008年
- 采用小角X光散射（SAXS）研究了疏水SiO2气凝胶X光散射特性。运用Porod方法、Shull-Roess平均粒径法研究了气凝胶疏水层厚度。计算结果表明气凝胶疏水层厚度在0.2-0.3nm之间，说明气凝胶的疏水层仅仅是由一层改性剂分子所组成，其凝胶骨架颗粒表面被疏水的甲基基团所覆盖。
- 任洪波杜凯张林万小波张勇
- 关键词：小角散射二氧化硅气凝胶
- 镍钨合金镀层结构的研究被引量：7
- 2005年
- 采用硫酸镍、钨酸钠和柠檬酸三钠为基本组分的镀液,通过电镀的方法在紫铜试片上沉积得到了镍钨合金镀层。讨论了电解液的组成、阴极电流密度、温度及pH值对镀层组成和结构的影响。根据X射线衍射试验结果,研究了镀层结构的形成过程。结果表明,该Ni W镀层是以Ni为溶剂原子、W为溶质原子的置换型固溶体结构,随着镀层中W含量的增加,晶粒尺寸明显下降,晶粒逐渐细化。
- 万小波张林周兰肖江
- 关键词：电沉积镍钨合金镀层非晶态X射线衍射
- 种子法制备金掺杂二氧化硅气凝胶被引量：5
- 2006年
- 采用羟胺种子法合成了金掺杂二氧化硅气凝胶。采用紫外-可见光分光光度计研究了还原过程中体系的变化情况。使用透射电镜（TEM）研究了气凝胶的微观结构，气凝胶的比表面积和孔径分布由BET-BJH方法测试。结果表明通过种子法可以制备金掺杂质量分数0．01％～1．00%．密度25～50mg／cm^3．比表面积达800m^2／s以上的SiO2气凝胶样品。
- 任洪波万小波张林杜爱明修鹏
- 关键词：纳米金气凝胶ICF
- 铜铁纳米多层膜电化学制备及GMR性能研究
- 本文采用单槽法控电位沉积技术在硅片上沉积了铜/铁纳米多层膜,测量了镀液的阴极极化曲线及电流-时间曲线,确定了沉积电位.并用扫描电镜(SEM)表征了多层膜的断面形貌,X射线衍射(XRD)谱图中强衍射峰的两侧出现了卫星峰,结...
- 万小波任洪波涂海燕周兰肖江修鹏张伟
- 关键词：纳米金属多层膜巨磁电阻电化学
- 化学镀铁工艺中络合剂用量的优化实验被引量：1
- 2011年
- 通过化学镀铁工艺构建应用于惯性约束核聚变实验用铁黑腔,在化学镀铁镀液配方中,络合剂是镀速和镀层孔隙率重要的影响因素。文中首先通过单一络合物实验初步得出了柠檬酸钠、乳酸和丙酸的初步范围,并通过正交试验优化了化学镀铁溶液中各络合物浓度,并讨论了不同浓度的络合剂对镀速和镀层孔隙率的影响关系。
- 张敏李林泽何为胡文成万小波张云望杜凯张林
- 关键词：正交试验
- 可加工疏水SiO2气凝胶的制备及表征
- 介绍了一种基于正硅酸乙酯(TEOS)的疏水SiO2气凝胶的制备及其表征方法.结果表明,最后制备的气凝胶具有一定塑性,可进行机械加工.
- 张林任洪波张勇万小波修鹏杜爱明
- 关键词：可加工性能正硅酸乙酯机械加工
- 内爆靶丸CH涂层制备过程中表面光洁度影响因素研究
- 随着ICF研究工作的深入,物理实验对精密化制靶提出了越来越严格的要求;靶丸表面光洁度参数指标的提出给精密制靶能力提出了巨大的挑战。尽管多年以来,国内外出现了有关内爆靶丸制备及靶丸表面光洁度研究工作的报道,但相关文献较少,...
- 冯建鸿黄勇吴卫东万小波马小军
- 小角X光散射法测定疏水二氧化硅气凝胶疏水层厚度
- 采用小角X光散射(SAXS)研究了疏水SiO2气凝胶X光散射特性.运用Porod方法、Shull-Roess平均粒径法研究了气凝胶疏水层厚度.计算结果表明气凝胶疏水层厚度在0.2～0.3mm之间,说明气凝胶的疏水层仅仅是...
- 任洪波杜凯张林万小波张勇
- 关键词：小角散射二氧化硅气凝胶
