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张椿

作品数：5 被引量：2H指数：1
供职机构：有色金属研究总院更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇会议论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 3篇原位
  • 3篇光谱
  • 3篇光谱研究
  • 2篇生产线
  • 2篇水溶
  • 2篇水溶液
  • 2篇硅表面
  • 2篇硅片
  • 2篇NH
  • 2篇OH
  • 1篇氢氟酸
  • 1篇拉曼
  • 1篇拉曼光谱
  • 1篇硅

机构

  • 5篇有色金属研究...

作者

  • 5篇张椿
  • 3篇屠海令
  • 3篇王敬
  • 3篇周旗钢
  • 3篇朱悟新
  • 2篇刘安生
  • 1篇刘安生

传媒

  • 1篇光散射学报
  • 1篇1998年全...
  • 1篇第十一届全国...
  • 1篇1998年全...
  • 1篇第十一届全国...

年份

  • 3篇1999
  • 2篇1998
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
NH<,4>OH\H<,2>O<,2>水溶液中硅表面的原位曼光谱研究
该文用共焦喇曼系统原位观察了Ｓｉ（１００）表面在ＮＨ〈，４〉ＯＨ／Ｈ〈，２〉Ｏ〈，２〉／Ｈ〈，２〉Ｏ（ＳＣ－１）溶液中的变化过程。研究表明：在硅片浸入ＳＣ－１溶液的过程中，其表面逐浙被两种氧化物所覆盖，一种是由于ＮＨ〈，...
王敬屠海令朱悟新周旗钢刘安生张椿
关键词：硅表面
文献传递网络资源链接
稀氢氟酸中硅表面氢终端的原位拉曼光谱研究被引量：2
1999年
本文用共焦显微拉曼系统原位观察了Ｓｉ（１００）表面氢终端原子在稀氢氟酸中的变化过程。研究表明：在硅片浸入氢氟酸溶液的初期，表面主要被硅和三个氢原子的结合体（ＳｉＨ３）以及硅和两个氢原子的结合体（ＳｉＨ２）所覆盖。随着腐蚀过程的延长，ＳｉＨ３越来越少，ＳｉＨ２的信号不断增强，并且，硅和单个氢原子的结合体（ＳｉＨ）的信号也开始出现。最终，硅表面主要被ＳｉＨ２所覆盖，有少量ＳｉＨ３和ＳｉＨ键。本文还表明。
王敬屠海令朱悟新周旗钢刘安生张椿
关键词：原位硅拉曼光谱氢氟酸
Φ200mm硅片生产线简介
张椿
关键词：硅片生产线
文献传递网络资源链接
Φ200mm硅片生产线简介
张椿
关键词：硅片生产线
NH<,4>OH\H<,2>O<,2>水溶液中硅表面的原位曼光谱研究
用共焦喇曼系统原位观察了Ｓｉ（１００）表面在ＮＨ〈，４〉ＯＨ／Ｈ〈，２〉Ｏ〈，２〉／Ｈ〈，２〉Ｏ（ＳＣ－１）溶液中的变化过程。研究表明：在硅片浸入ＳＣ－１溶液的过程中，其表面逐浙被两种氧化物所覆盖，一种是由于ＮＨ〈，４〉...
王敬屠海令朱悟新周旗钢刘安生张椿
关键词：硅表面
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