李哲奎
- 作品数：34 被引量：51H指数：4
- 供职机构：延边大学理学院更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划教育部“优秀青年教师资助计划”国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学金属学及工艺电子电信一般工业技术更多>>
- 金刚石膜的拉曼光谱研究被引量：2
- 2000年
- 研究了利用微波等离子体化学气相沉积方法制备的金刚石膜的拉曼光谱 ,讨论了金刚石膜中的非金刚石碳相与甲烷浓度、基板温度之间的关系 .
- 李哲奎
- 关键词：金刚石膜微波等离子体化学气相沉积拉曼光谱
- 量子算符的次序(英文)
- 2000年
- 考虑了由正则变换相关的谐振子Hamiltonian .并且利用Feyman路径积分 ,讨论了算符次序问题 .
- 张寿李哲奎
- 关键词：路径积分正则变换谐振子
- 磁控溅射非晶CN_x薄膜的热稳定性研究被引量：4
- 2004年
- 为了研究非晶CNx薄膜的热稳定性,采用射频磁控溅射方法沉积了非晶CNx薄膜样品,并在真空中退火至900℃,利用FTIR,Raman和XPS谱探讨了高温退火对CNx薄膜化学成分及键合结构的影响.研究表明:CNx薄膜样品中N原子分别与sp、sp2和sp3杂化状态的C原子相结合,退火处理极大地影响了CN键合结构的稳定性;当退火温度低于600℃时,膜内N含量的损失较少,CNx薄膜的热稳定性较好,退火温度超过600℃时,将导致CNx膜中大多数C、N间的键合分离,造成N大量损失,膜的热稳定性下降;退火可促使膜内sp3型键向sp2型键转变,在膜中形成大量的sp2型C键,导致CNx膜的石墨化.
- 李俊杰金曾孙吴汉华林景波金哲李哲奎顾广瑞盖同祥
- 关键词：磁控溅射热稳定性真空退火
- 工作气压对TiO_2薄膜结构的影响被引量：2
- 2004年
- 用射频磁控溅射方法以纯金属钛做靶材在氩氧混合气体中制备了TiO2薄膜,Raman光谱测量表明,工作气压从0.2Pa变化到2Pa时,TiO2薄膜的结构由金红石相变化到锐钛矿相,厚度对TiO2薄膜结构没有明显影响.
- 李哲奎顾广瑞孙文斗李全军赵永年
- 关键词：TIO2薄膜RAMAN光谱金红石锐钛矿
- s-d混合效应与s-d系统附加比热
- 1998年
- 根据ＡｎｄｅｒｓｏｎＭｏｄｅｌ定量地估计了稀磁合金中有磁解与非磁解的情况下ｓ－ｄ混合效应所引起的杂质电子与传导电子的附加比热．
- 李哲奎王翠金光星
- 关键词：稀磁合金
- 基底温度对氮化硼薄膜场发射特性的影响被引量：3
- 2004年
- 利用射频磁控溅射方法,真空室中充入高纯N2(99.99%)和高纯Ar(99.99%)的混合气体,在n型(100)Si基底上沉积了六角氮化硼(h-BN)薄膜.在超高真空(<10-7Pa)系统中测量了BN薄膜的场发射特性,发现沉积时基底温度对BN薄膜的场发射特性有很大影响.基底温度为500℃时沉积的BN薄膜样品场发射特性要好于其他薄膜,阈值电场为12V/μm,电场升到34V/μm,场发射电流为280μA/cm2.所有样品的Fowler-Nordheim(F-N)曲线均近似为直线,表明电子是通过隧道效应穿透BN薄膜发射到真空的.
- 孙文斗顾广瑞孙龙李全军李哲奎盖同祥赵永年
- 关键词：场发射基底温度氮化硼薄膜射频磁控溅射隧道效应
- 数字式电容测量电路被引量：1
- 1992年
- 本文介绍一种由55,定时器集成电路和EPROM设计的数字式电容测量电路。此电路全部由数字电路组成,直接显示电容的数字量。
- 黄元三李哲奎许仁天
- 关键词：电容测量集成电路
- 电流密度对铝合金微弧氧化陶瓷膜显微硬度影响的研究
- 采用微弧氧化技术在铝合金上制备了陶瓷膜。借助于先进的结构和表征手段,系统地研究了阳极电流密度ja和阴/阳极电流密度比jc/ja对铝合金微弧氧化陶瓷膜显微硬度的影响,实验结果表明,对于不同的jc/ja,陶瓷膜的显微硬度都随...
- 吴汉华吕宪义龙北玉汪剑波王秀琴金曾孙李哲奎
- 关键词：微弧氧化陶瓷膜电流密度显微硬度
- 文献传递
- 石英管型MWPCVD法制备的纳米针状结构碳膜的场发射特性被引量：5
- 2007年
- 利用石英管型微波等离子体化学气相沉积装置,在Si基板上制备了具有纳米针状结构的碳膜。场发射特性测试表明,纳米针状结构碳膜具有良好的场发射特性,阈值电场为2.2V/μm,外加电场为9V/μm时,电流密度达到65mA/cm2。利用统计效应修改了Fowler-Nordheim(F-N)模型,成功地解释了在低电场区域的场发射机理。但是利用修改的F-N模型,不能解释高电场区域的电流密度的饱和现象,这将有待于进一步研究。
- 顾广瑞吴宝嘉金逢锡金哲李哲奎
- 关键词：场发射碳膜纳米针微波等离子体化学气相沉积
- 电压对纯钛微弧氧化膜生长特性的影响被引量：2
- 2006年
- 在Na2CO3Na2SiO3溶液中,利用单极性脉冲微弧氧化电源在TA2基底上制备了二氧化钛氧化膜.研究了微弧氧化电压对氧化膜生长速率、相组成及表面形貌的影响.结果表明:随着电压的升高,氧化膜的生长速率先增加后减小,表面粗糙度和微孔尺寸逐渐增大,而微孔密度逐渐减小.膜层主要由锐钛矿和金红石相TiO2组成,随着电压的增加,膜层中锐钛矿相TiO2先增加后减少,而金红石相TiO2则逐渐增加并成为主晶相.
- 李哲奎顾广瑞吴汉华汪剑波金曾孙
- 关键词：钛微弧氧化相组成表面形貌
