您的位置: 专家智库 > >

文晓刚

作品数:9 被引量:25H指数:1
供职机构:中国科学院成都有机化学研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学化学工程一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 3篇专利

领域

  • 3篇理学
  • 2篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇等离子体
  • 3篇放电处理
  • 3篇催化
  • 3篇催化剂
  • 2篇一体式
  • 2篇气相沉积
  • 2篇离子
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 2篇光催化
  • 2篇光催化剂
  • 2篇放电电极
  • 2篇分体式
  • 1篇等离子体化学
  • 1篇等离子体技术
  • 1篇氧化铝
  • 1篇氧化铝膜
  • 1篇氧化锡
  • 1篇天然气
  • 1篇镍基催化剂

机构

  • 9篇中国科学院

作者

  • 9篇文晓刚
  • 8篇张勇
  • 8篇曹伟民
  • 2篇罗春容
  • 2篇储伟
  • 2篇马胡兰
  • 2篇安纬珠
  • 1篇周坤麟
  • 1篇刘维民

传媒

  • 2篇合成化学
  • 1篇功能材料
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇天然气化工—...
  • 1篇四川真空

年份

  • 1篇2003
  • 2篇2000
  • 1篇1999
  • 2篇1998
  • 1篇1997
  • 2篇1996
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
治理有机污染气体的方法及装置
本发明涉及一种将无声放电和光催化工艺组合起来的治理有机污染气体的方法及装置,由无声放电电源、无声放电电极、光源、光催化剂和反应器组成。可以是分体式组合或一体式组合。有机污染物分子经无声放电处理和光催化处理后,可以被彻底分...
安纬珠周坤粦文晓刚马胡兰张勇曹伟民
文献传递
PECVD法制备的SnO_x气敏膜的色变机理
1998年
采用PECVD法制备了非晶掺Sn有机膜,经过退火处理得到SnOx气敏膜,考察了退火过程和气敏响应过程的阻温特性和颜色变化的关系,研究了表面掺Ag对SnOx元件电阻、气敏性能以及颜色的影响,发现测量时膜表观色泽发生显著变化,并且颜色变化的深度与灵敏度大小相一致,颜色变化的快慢与响应时间的长短相一致,据此可望开发出色变气敏传感器。
张勇周坤曹伟民文晓刚
关键词:气敏膜PECVD氧化锡
冷等离子体制备铝的氧化物膜被引量:1
1996年
冷等离子体制备铝的氧化物膜张勇,周坤,曹伟民,文晓刚(中国科学院成都有机化学研究所,成都,610041)氧化铝是一种重要的无机材料,在微电子工业、机械工业及化学工业等方面有着广泛的应用前景。采用冷等离子体制备的氧化铝膜具有独特的性能:采用干法制膜,升...
张勇周坤粦曹伟民文晓刚
关键词:氧化铝膜冷等离子体
治理有机污染气体的装置
本发明涉及一种将无声放电和光催化工艺组合起来的治理有机污染气体的方法及装置,由无声放电电源、无声放电电极、光源、光催化剂和反应器组成。可以是分体式组合或一体式组合。有机污染物分子经无声放电处理和光催化处理后,可以被彻底分...
安纬珠周坤粦文晓刚马胡兰张勇曹伟民
文献传递
工作气氛和偏压对含铁聚合物杂混薄膜制备的影响
1997年
采用等离子体增强金属有机化合物化学气相沉积(PEMOCVD)工艺,在氧化性气氛(O2)和非氧化性气氛(H2、Ar)中制备了含铁聚合物杂混薄膜。探讨了工作气氛和偏压对膜密度、沉积速率及其分布的影响。
文晓刚周坤粼曹伟民张勇
等离子体技术制备Ni/α-Al_2O_3催化剂被引量:24
2000年
采用射频辉光放电等离子体技术制备了用于天然气部分氧化制合成气反应的α Al2 O3担载金属Ni催化剂。考察了该催化剂的反应活性、稳定性 ,并与常规方法制备的催化剂进行了比较。结果表明 ,采用等离子体技术制备的催化剂 ,具有操作简便、工艺流程短、催化剂变化过程直观易控、催化剂活性高、稳定性好等优点 ,在 850℃反应时可获得 98 2 %天然气转化率 ,97 3%H2 选择性和 96 5%CO选择性 ,并且反应 1 5h后催化剂活性几乎未下降。XRD和TPR实验结果表明 ,采用等离子体技术制备的催化剂的晶相组成和还原性能与常规催化剂有很大差别。
张勇储伟罗春容周坤麟文晓刚曹伟民
关键词:等离子体技术天然气部分氧化镍基催化剂
钝态催化剂的活化方法
钝态催化剂的活化方法,属于等离子体化学技术领域。其特征是经放电处理,用非平衡等离子体中的高活性物种与金属化合物钝态催化剂作用,使之离解后,通入永久性气体使之氧化或还原,在非热力学平衡的低温条件下迅速活化催化剂。具有反应温...
张勇周坤粦储伟罗春容曹伟民文晓刚
文献传递
含Fe聚合物混合薄膜的制备
1996年
采用等离子体增强金属有机化合物化学气相沉积技术(PEMOCVD)制备含Fe聚合物混合薄膜,系统考查了偏压,源物加工热电压,沉积位置对膜沉积的影响,对膜的组成和结构进行了研究。
文晓刚
关键词:化学气相沉积
含铁聚合物薄膜的制备、结构和性能
1998年
采用等离子体增强金属有机化合物化学气相沉积(PEMOCVD)工艺制备含铁聚合物薄膜。考察了偏压、源物加热电压对膜的沉积速率及膜中Fe的填充系数的影响。用IR,XPS,TEM和TED对膜的组成和结构进行了分析,表明薄膜具有Fe团簇镶嵌在聚合物基质中的杂混结构特征。对薄膜的光学、电学及湿敏特性进行了研究,证明膜的填充系数对膜的结构和性能都有很大的影响。该薄膜具有较好的湿敏性能。
文晓刚周坤粦曹伟民张勇刘维民
关键词:化学气相沉积
共1页<1>
聚类工具0