阮霞
- 作品数：1 被引量：21H指数：1
- 供职机构：哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院更多>>
- 相关领域：一般工业技术更多>>
- 磁控溅射TiN薄膜工艺参数对显微硬度的影响被引量：21
- 2007年
- 测试了各种工艺参数下磁控溅射制备TiN薄膜的显微硬度,并研究了TiN薄膜硬度随偏压、N2流量及溅射功率的变化.实验结果表明:N2流量对薄膜性能和结构影响较大,随着N2流量的增加,氮化钛薄膜的硬度先急剧上升,到15 mL/s时达到最大值,然后氮化钛薄膜硬度平缓下降,在无偏压的情况下,氮化钛薄膜的硬度很低,加偏压后,由于离子轰击作用,薄膜硬度增加,但过高的负偏压反而会降低氮化钛薄膜硬度.
- 徐哲席慧智阮霞
- 关键词：TIN薄膜磁控溅射显微硬度
