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周正有

作品数：2 被引量：9H指数：1
供职机构：中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇动力学
  • 2篇分子
  • 2篇分子动力学
  • 1篇动力学模拟
  • 1篇液态硅
  • 1篇分子动力学模...
  • 1篇硅

机构

  • 2篇中国科学院上...

作者

  • 2篇周正有
  • 2篇程兆年
  • 1篇王铁兵

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇功能材料与器...

年份

  • 2篇1999
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
修正Tersoff势在熔态硅分子动力学模拟中的应用
1999年
采用Ｔｅｒｓｏｆｆ 势，通过粒子间相互作用距离Ｒ、Ｓ的不同取值加以修正，并进行了液态硅的分子动力学模拟。模拟的结果表明其径向分布函数能与Ｘ 射线衍射、中子散射实验相一致。模拟得到液态硅配位数６－９ ，键长０－２５４ｎｍ 。键角几率分布出现两个峰值，～５７°和～１０２°，表明液态硅中存在复杂的结构。模拟结果还表明，液态硅中硅原子间联接成一种网络状结构，但大多数硅原子与其近邻硅原子仍保持近似于正四面体的局部结构。
周正有程兆年
关键词：液态硅分子动力学模拟
分子动力学模拟研究熔态硅的局部结构被引量：9
1999年
采用Ｔｅｒｓｏｆｆ 势，修正试用不同的粒子间相互作用距离Ｒ，Ｓ 的取值，进行了液态硅的分子动力学模拟．模拟的结果表明，修正Ｔｅｒｓｏｆｆ 势下得到的径向分布函数能与Ｘ 射线衍射、中子散射实验相一致．模拟得到在液态硅中，Ｓｉ 的配位数为６９ ，键长为０２５４ ｎｍ ．分子动力学模拟表明，液态硅中Ｓｉ 原子间联接成一种网络状结构，但大多数Ｓｉ 原子与其近邻Ｓｉ 原子仍保持近似于正四面体的局部构型．键角概率分布出现两个峰值～５７°和～１０２°．通过键序参量分析，得到在液态硅近邻结构中，正四面体构型约占８２ ％ ，键取向波动方差为５２°．模拟结果还表明，除正四面体局部构型外，非正四面体局部构型不一定全是正二十面体构型。
周正有王铁兵程兆年
关键词：硅分子动力学
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