搜索到16305篇“ X射线光电子谱“的相关文章
对痕量甲醛气体敏感的SnO_2-NiO纳米材料的X射线光电子研究被引量:2
2016年
本文研究了对痕量甲醛气体敏感的SnO_2-NiO纳米材料的X射线光电子(XPS).通过对XPS O1s和Sn3d5/2分峰的分析证实了SnO_2-NiO纳米材料是氧化态.在SnO_2-NiO纳米材料的表面观察到了SnO_2、SnO、NiO和Ni_2O_3,而以SnO_2为主要成分,NiO含量很低.由于掺杂了低浓度NiO使SnO_2-NiO纳米材料表面吸附氧的数量极大地增加,从而增加了材料表面反应活性点,进而使SnO_2-NiO纳米材料对痕量甲醛(HCHO)气体的气敏性能大大提高.
吕品张绍成唐祯安
关键词:X射线光电子谱甲醛气体
X射线光电子方法研究CdTe/CdS异质结界面
CdTe/CdS异质结是CdTe电池光电转换的核心部分。X射线光电子(XPS)是研究材料界面成分分布、能带结构的有力工具。我们使用化学水浴的方法在FTO薄膜上制备CdS膜,使用密闭空间升华的方法制备CdTe膜,对CdT...
韩俊峰廖成江涛谢华木焦飞陆真冀赵夔
关键词:薄膜太阳能电池光电转换X射线光电子谱
文献传递
电子型高温超导体Nd/_(2-x)Ce/_xCuO/_4单晶的X射线光电子研究
电子型铜氧化合物高温超导体RE2-xCexCuO4±δ/(RE=Nd, Sm, Pr, La/),单纯的Ce掺杂并不能引起超导,超导只有在对样品经过合适的退火处理后才能出现。对于这一性质,物理学家们进行了很多相关的理论和...
许祥益
关键词:X射线光电子谱局域化
文献传递
浮法玻璃下表面渗锡的X射线光电子被引量:5
2005年
利用X射线光电子仪(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)对国内外浮法玻璃样品(样品A和样品B)下表面渗锡情况进行了对比分析。结果表明:在浮法玻璃下表面900nm范围内,2种样品中的锡离子在渗锡面均以Sn0,Sn^(2+),Sn^(4+)3种价态存在,Sn^(2+)在整个渗锡量中均占最大比例。在近表面区,渗锡均以Sn^(2+)态为主,Sn0和Sn^(2+)含量之和均占到总渗锡量的90%以上,且样品A渗锡量远远高于样品B的渗锡量。样品A的不同锡离子相对含量沿深度变化较大,而样品B的不同锡离子相对含量沿深度变化小于1%。结合扫描电子显微镜形貌观察可知:钢化虹彩现象是由钢化处理中,Sn^(2+)转变为Sn^(4+)的氧化反应导致的体积膨胀引起的。在该反应过程中单胞体积增大3%。综合XPS与钢化虹彩实验结果可知,XPS分析可以有效而精确地提供浮法玻璃中锡的价态以及含量信息。
刘世民秦国强许哲峰于栋利李东春
关键词:浮法玻璃X射线光电子谱钢化虹彩
UC表层结构的X射线光电子研究
伏晓国
关键词:光电子谱
文献传递
UC表层结构的X射线光电子研究
2003年
UC具备优良的物理性能,可用作核反应堆燃料。但UC在大气中易与氧气和湿气作用而发生腐蚀。块状UC在高温下的氧化行为已采用传统的热重、金相和X射线衍射等分析方法开展过广泛的研究,但这些技术难以提供UC表面氧化物薄层的相关信息。本文旨在运用XPS仪结合氩离子蚀刻确定常温时形成在UC表面的大气腐蚀产物并获取UC清洁表面的XPS
伏晓国
关键词:碳化铀X射线光电子谱大气腐蚀
聚合物表面分析 X射线光电子 XPS 和静态次级离子质 SSIMS
本书深入论述了X射线光电子(XPS)和静态次级离子质(SSIMS)及其在聚合物材料研究中的应用,内容包括聚合物表面的重要性,X射线光电子(XPS)等。
(英)D.布里格斯(D.Briggs)著
关键词:光电子谱法高聚物质谱学
利用X射线光电子对PtSi/p-Si(111)的电子结构研究
2001年
利用磁控溅射方法制备了不同工艺条件下的 PtSi/ p-Si异质薄膜,采用X射线光电子讲(XPS)测试其芯能级和价电子.结果表明,其相形成由表面到界面为Pt,Pt_2Si,PtSi,材底温度的升高与沉积薄Pt膜有利于单一PtSi的形成,并揭示其价电子峰出现的原因.
李雪殷景华
关键词:X射线光电子谱电子结构PTSI/P-SI硅化铂光电子学
X射线光电子研究Pt和CeO_2间的相互作用被引量:4
2001年
X射线光电子研究了CeO2 和Pt间的相互作用 ,探讨了通过相互作用能提高CeO2 的氧化还原反应活性的机理 ,并与通常的金属和载体强相互作用的机理进行了比较。对高结合能端O 1s峰和表面O-离子的产生过程进行了讨论。
刘振祥谢侃
关键词:氧化铈X射线光电子谱CEO2PT汽车尾气催化剂相互作用
氮化碳薄膜的X射线光电子被引量:2
1999年
用XPS研究射频-直流等离子体增强化学气相沉积(PECVD)获得的氮化碳(CN)薄膜的化学结构。C1s 和N1s芯能级电子分析表明:在CN膜中含有N-sp3 和N-sp2 两类化学结构,在高含N膜中还含有少量的N-sp 相,且代表N-sp3 结构的原子比为1.28,接近4∶3,证明此膜中存在类β-C3N4 相。且增加膜中含N 量有利于提高类β-C3 N4 相的含量。CN膜的化学结构在离子辐照下会发生轻微变化,结果表明,随离子剂量增加,N-sp3 /N-sp2 比增高。
莫少波刘英杨业智程宇航
关键词:化学结构XPS离子辐照氮化碳薄膜

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杨芳儿
作品数:86被引量:119H指数:7
供职机构:浙江工业大学
研究主题:电接触材料 脉冲激光沉积 溶胶-凝胶法 A-C 纳米多层膜
郑晓华
作品数:85被引量:217H指数:9
供职机构:浙江工业大学
研究主题:脉冲激光沉积 电接触材料 化学镀 纳米多层膜 摩擦学特性
马洪磊
作品数:125被引量:508H指数:15
供职机构:山东大学物理学院
研究主题:透明导电膜 磁控溅射 清洗剂 射频磁控溅射 光致发光
沈涛
作品数:10被引量:34H指数:3
供职机构:浙江大学浙江加州国际纳米技术研究院
研究主题:脉冲激光沉积 X射线光电子谱 氮化碳 LA 摩擦学特性
郑晋翔
作品数:6被引量:20H指数:3
供职机构:浙江工业大学机电工程学院
研究主题:脉冲激光沉积 X射线光电子谱 氮化碳 摩擦学 摩擦学特性