搜索到93篇“ NLO性质“的相关文章
喹喔啉及其衍生物二阶NLO性质的理论研究
2022年
非线性光学(NLO)材料由于其光电方面的应用潜力,分子设计在寻找具有大的二阶NLO响应的化合物方面具有很大优势,通过改变分子构象和不同取代基为合理设计和开发高性能的二阶NLO分子提供了新思路。采用密度泛函理论(DFT)方法对具有刚性和柔性π-共轭连接体的二苯吡啶并喹喔啉和二苯基吡啶并吡嗪衍生物进行理论探索,所研究体系具有3个供体基团与1个受体基团(D_(3)-A)的推拉模式,通过取代基及其构象的变化调控二阶NLO性质。计算结果表明具有平面π-共轭连接体的D_(3)-A分子,其第一超极化率(β_(tot))比相应扭曲几何构型的有机物要大。此外,所设计的3,6,12-三(9H-咔唑-9-基)-11-氟二苯并[f,h]吡啶并[2,3-b]喹啉表现出较大的β_(tot),最大达到35.04×10^(-30) esu,这说明体系的NLO性质不仅与取代基有关,而且还受分子构象影响。此外,通过激发态电荷转移情况来更详细地说明β_(tot)的变化规律。
陈星伊叶近婷刘景海徐玲
关键词:非线性光学喹喔啉密度泛函理论
含咔唑基吡嗪衍生物的二阶NLO性质研究被引量:1
2019年
采用B3LYP方法,在6-311G(d,p)水平上研究了若干含咔唑基吡嗪衍生物的二阶NLO性质和电子光谱.结果表明,分子的二阶NLO系数(βtot)与极化率(α)成正比关系,并且取代基吸电子强度的增加以及芳香杂环的引入可以明显提高分子的二阶NLO活性.当以丙基为供体,三氰基苯乙烯基为受体,并用吡咯环代替苯环时,显示了较大的NLO活性和良好的透光性,研究体系在NLO材料领域有较好的应用前景.
任冬梅黄醒赵岷
关键词:密度泛函理论吡嗪咔唑二阶NLO性质电子光谱
三氟甲基化二芳基乙烯二阶NLO性质的研究
2019年
采用密度泛函理论(DFT)方法,对三氟甲基化二芳基乙烯(DAE)系列化合物的几何结构、第一超极化率及吸收光谱进行了研究.结果表明,只有在开闭环或通过将X由C变为N造成DAE骨架改变时,体系的几何构型会发生较大的变化,而将Y由H变为F或者改变R基团,对键长影响甚微.但是引入F取代基,无论是开环还是闭环体系,都使得体系的电荷转移特征发生较大变化,导致F取代体系的二阶非线性光学(NLO)系数减小;取代基R及DAE骨架原子改变对二阶NLO系数影响不大.带有吸电基团F的体系2c,2o和4c,4o,在开闭环的转换过程中体系的二阶NLO性质有显著的调节作用.
金磊刘晓东荆丽雪仇永清苏忠民
关键词:二芳基乙烯二阶非线性光学性质吸收光谱密度泛函理论
具有二维结构的邻位碳硼烷三元体系NLO性质的DFT研究
非线性光学(NLO)材料因在信息处理、激光技术、光电转换和光通讯等方面的广泛应用而备受关注。目前,虽然实用的NLO材料大多数是无机化合物,但是由于一些有机化合物中π电子的离域性,这些有机化合物可产生较大的二阶NLO响应,...
吴娟
关键词:非线性光学性质电荷转移
单、双核Ir(Ⅰ)/Rh(Ⅰ)/Ru(Ⅱ)金属配合物二阶NLO性质的DFT研究
非线性光学(NLO)材料被广泛应用在激光技术,信息储存和光通信等与人们日常生活十分紧密的领域,因此,很多科学家们将研究的重点放在了探究具有良好性能的NLO材料上。与纯有机NLO材料相比,有机金属配合物可以通过改变金属的种...
荆丽雪
关键词:二阶NLO性质
七硫脲三氯化铋晶体生长及NLO性质研究
本文以氯化铋和硫脲为反应物,应用反应溶剂筛选的方法,在以甲酸-水体系为反应溶剂中发现了一种新型的配位化合物。用缓慢蒸发法得到该新型配位化合物的单晶,结合红外分析和拉曼分析,应用单晶衍射分析得到DCBPB的单晶结构,其化学...
张良
关键词:硫脲晶体生长非线性光学性质
以三亚吡嗪为中心的有机共轭分子的二阶NLO性质研究被引量:3
2017年
采用密度泛函理论B3LYP/6-311G**方法,对一系列以三亚吡嗪为中心的有机共轭分子的二阶NLO性质和电子光谱进行了理论研究.结果表明,取代基推、拉电子能力的变化、相对数目及共轭桥的性质对研究分子的极化率及二阶NLO系数都有较大的影响.当研究分子以甲氨基为供体、以三氰基乙烯为受体、并以C=C双键为共轭桥时,显示了较大的二阶NLO活性和良好透光性的优化.该系列分子在NLO材料领域有较好的潜在应用价值.
赵岷于蕙瑄李新华黄醒
关键词:密度泛函理论二阶NLO性质电子光谱
C20H10系列碗烯化合物二阶NLO性质的DFT研究
非线性光学(NLO)材料在有机电子、光电工程以及导体等方面有着重要的应用而引起了实验和理论界的广泛关注。碗烯是碳网络的碗状多环芳烃,其结构稳定,接受电子能力较强,有凸凹的π面可以结合阴阳离子。近年来,碗烯化合物的电子结构...
陈赫
关键词:NLO性质DFT
给-受体取代共轭多烯D—(CH=CH)_n—A的NLO性质及协同推拉依赖性
2017年
研究多种推、拉电子基团端位取代H—(CH=CH)_n—H的电子结构,并在LC-BLYP/6-31G(d)水平上计算推电子基团(—NH_2,—OH,—NHCOH,—CH_3)、拉电子基团(—F,—Cl,—C_6H_5,—C≡CH,—CN,—CHO,—NO_2)对长程共轭烯烃分子结构的非线性光学性质的影响.结果表明,单独的推或拉电子基团均能有效地增大共轭多烯结构的超极化率(β0/a.u.).β0从结构H—(CH=CH)_6—H中的0.6分别增大到NH_2—(CH=CH)_6—H中的4.0×103和H—(CH=CH)_6—NO_2中的5.4×103;推、拉电子基团同时连接在共轭烯烃两端时,对β0存在协同作用.其中—NH_2与—NO_2的协同作用最明显,去除单纯—NH_2和单纯—NO_2取代对β0的贡献,协同作用的Δβ=4.6×10~3 a.u..β_0从结构H—(CH=CH)_6—H中的0.6.增大到NH_2—(CH=CH)_6—NO_2中的1.4×10~4,增大了大约2.3×104倍;结构NH_2—(CH=CH)_n—NO_2的β0随着链长n的增大而增大.提出一种推、拉电子基团协同作用提高共轭分子结构非线性光学性质的新策略.
袁堂蜜刘振波李雯李文佐程建波
关键词:给体受体第一超极化率
邻位碳硼烷衍生物氧化还原和二阶NLO性质的DFT研究
非线性光学(NLO)过程由于在各种光电调节器如光学通信、数据操作、存储和传输等方面的应用在理论和实验上备受关注。二十面体碳硼烷和金属碳硼烷由于具有刚性结构,在有机溶剂中的高溶解性等特点,近年来这类体系的电子结构、成键特征...
方新燕
关键词:电荷转移NLO性质

相关作者

孙世玲
作品数:42被引量:133H指数:7
供职机构:东北师范大学化学学院功能材料化学研究所
研究主题:非线性光学性质 电子光谱 NLO性质 二阶非线性光学性质 碳硼烷
孙晓娜
作品数:10被引量:12H指数:2
供职机构:东北师范大学化学学院功能材料化学研究所
研究主题:NLO性质 双自由基 非线性光学性质 DFT研究 自由基
麻娜娜
作品数:20被引量:13H指数:3
供职机构:东北师范大学化学学院功能材料化学研究所
研究主题:非线性光学性质 碳硼烷 NLO性质 DFT 二阶非线性光学性质
杜艳青
作品数:7被引量:10H指数:3
供职机构:东北师范大学化学学院功能材料化学研究所
研究主题:NLO性质 自由基 密度泛函理论研究 衍生物 氧自由基
李雪
作品数:6被引量:6H指数:1
供职机构:东北师范大学化学学院功能材料化学研究所
研究主题:碳硼烷 NLO性质 DFT 非线性光学性质 金属