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极紫外光源用大口径Mo/Si多层厚度控制与热稳定性研究
2024年
Mo/Si多层是13.5 nm极紫外波段理想的反射镜系,它与极紫外光源的结合使得极紫外光刻成为了目前最先进的制造手段之一。极紫外光源的实际应用对Mo/Si多层提出了高反射率、高热稳定性、抗辐照损伤、大口径等诸多要求。针对极紫外光源用Mo/Si多层面临的厚梯度控制和高温环境问题,利用掩模板辅助法对大口径曲面基底上不同位置处的多层厚进行修正;选择C作为扩散阻隔层材料,对磁控溅射法制备的Mo/Si、Mo/Si/C和Mo/C/Si/C三种多层在300℃高温应用环境下的热稳定性展开了研究。研究结果表明:通过掩模板辅助的方式能够将300 mm口径曲面基底上不同位置处的Mo/Si多层厚控制在预期厚度的±0.45%以内,基底上不同位置处Mo/Si多层层结构和表面粗糙度基本相同;引入C扩散阻隔层后,经过300℃退火,Mo/Si多层的反射率损失从9.0%减少为1.8%,说明C的引入能够有效减少高温对多层微结构的破坏和对光学性能的影响,提高了多层的热稳定性。
刘翔月张哲蒋励宋洪萱姚殿祥黄思怡徐文杰霍同林周洪军齐润泽黄秋实张众王占山
关键词:激光光学MO/SI多层膜磁控溅射热稳定性
直流磁控技术制备周期厚度横向二维梯度分布的Mo/Si多层的方法
本发明提出了一种直流磁控技术制备周期厚度横向二维梯度分布的Mo/Si多层的方法,选择Mo/Si作为多层材料,标定了在直流磁控溅射镀方法中Mo靶和Si靶在掠靶镀模式下基底上的厚分布情况,并据此制备了掩版。利用掩...
朱京涛朱圣明金长利
反应溅射制备Ni/Ti反射镜及Mo/Si多层保护层的研究
多层的表面与界面性能是影响多层反射率的关键因素之一。目前改善界面特性的技术手段主要是采用界面阻隔层、共溅射和反应磁控溅射等,本文主要聚焦于采用反应磁控溅射技术来解决这一问题。首先对Ni/Ti中子多层反射镜进行理论设...
孙航
关键词:MO/SI多层膜反应磁控溅射
一种极紫外Mo/Si多层反射镜及其制备方法
本发明提供了一种极紫外Mo/Si多层反射镜及其制备方法,属于高反射极紫外元件领域,极紫外Mo/Si多层反射镜包括:基底、打底层、Mo/Si周期多层、防扩散金属层及氧化物保护层;打底层镀制在基底上;Mo/Si周期多层...
孙航朱运平金长利
一种适用于EUV光刻的Mo/Si多层反射镜制备方法
一种适用于EUV光刻的Mo/Si多层反射镜制备方法,采取直流磁控溅射方法在凸面镜上生长Mo/Si周期性多层,凸面镜在直流磁控溅射生长腔中做溅射处理以清洁表面吸附气体和使得样品表面平整,从而得到高质量的样品,溅射清洗功...
严羽冯冠群徐永兵陆显扬黎遥何亮
月基极紫外相机Mo/Si多层反射镜的空间质子辐照稳定性被引量:1
2021年
为研究月基极紫外相机Mo/Si多层反射镜能否在月面辐照环境下长期稳定工作,从理论仿真、光学性能、微观形貌三方面对其辐照稳定性进行了研究。采用Monte-Carlo方法模拟了不同能量质子束辐照Mo/Si多层后薄内部的损伤情况,结果表明:质子能量越高,对薄深层损伤越大。进行了50KeV高能质子辐照实验,Mo/Si多层辐照后周期厚度降低、界面粗糙度增加,30.4 nm反射率下降2.8%,中心波长向短波方向偏移0.2nm。TEM显示Mo/Si多层辐照后出现了局部烧蚀和层间渗透,周期结构被破坏。制备的Mo/Si多层反射镜在辐照后虽然性能发生一定退化,但仍可正常工作,说明其具有良好的辐照稳定性。
李云鹏陈波吕鹏杨洪臣王华朋
关键词:MO/SI多层膜质子辐照反射率等离子体层
Mo/Si多层表面粗糙度相关镀工艺的研究被引量:4
2020年
Mo/Si多层工艺是极紫外光刻的关键技术之一,为了优化并提升Mo/Si多层的镀工艺,研究了气压、靶-基底间距这两个工艺参数对Mo/Si多层表面粗糙度的影响。根据磁控溅射物理过程,建立了一个原子沉积的物理模型,分析了原子沉积到基底时的入射角度和入射能量分布对气压、靶-基底间距的影响。此外,利用直流磁控溅射镀机,制备了Mo/Si多层样片,并测量了表面粗糙度和功率谱密度,研究了表面粗糙度和功率谱密度随气压和靶-基底间距的演化规律。理论和实验的结论一致,所提模型从理论上解释了实验测量结果。
孙诗壮金春水喻波郭涛姚舜李春邓文渊
关键词:MO/SI多层膜极紫外光刻磁控溅射表面粗糙度功率谱密度
直流磁控技术制备周期厚度横向二维梯度分布的Mo/Si多层的方法
本发明提出了一种直流磁控技术制备周期厚度横向二维梯度分布的Mo/Si多层的方法,选择Mo/Si作为多层材料,标定了在直流磁控溅射镀方法中Mo靶和Si靶在掠靶镀模式下基底上的厚分布情况,并据此制备了掩版。利用掩...
朱京涛朱圣明金长利
一种极紫外波段宽带Mo/Si多层的制备方法
本发明提供了一种极紫外波段宽带Mo/Si多层的制备方法,包括以下步骤:依据目标宽带Mo/Si多层的指标,采用两层模型进行系设计,获得Mo/Si系厚度序列;依据所述Mo/Si系厚度序列,采用有效厚度法标定各周期M...
喻波姚舜金春水
基于量子进化算法的宽角度极紫外Mo/Si多层的设计方法
基于量子进化算法的宽角度极紫外Mo/Si多层的设计方法属于极紫外多层研发领域,解决了在宽角度极紫外多层设计中普遍采用遗传算法优化设计过程中存在的种群规模大、计算过程复杂和求解效率低的问题。该方法步骤如下1)输入量子...
匡尚奇王一名张超

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王占山
作品数:691被引量:815H指数:13
供职机构:同济大学
研究主题:多层膜 极紫外 软X射线 反射率 薄膜光学
朱京涛
作品数:100被引量:179H指数:8
供职机构:同济大学
研究主题:多层膜 磁控溅射 极紫外 反射率 周期多层膜
喻波
作品数:58被引量:40H指数:4
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
研究主题:极紫外 极紫外光刻 多层膜 MO/SI多层膜 EUV
金春水
作品数:356被引量:270H指数:9
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
研究主题:光学元件 极紫外 多层膜 极紫外光刻 面形
张众
作品数:144被引量:171H指数:8
供职机构:同济大学
研究主题:多层膜 极紫外 磁控溅射 反射率 X射线