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等离子体处理
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排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
相关度排序
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
等离子体
处理
装置
本发明的
等离子体
处理
系统包括第一
等离子体
处理
装置和第二
等离子体
处理
装置。第一
等离子体
处理
装置和第二
等离子体
处理
装置各自包括
等离子体
处理
腔室、基片支承部、电功率消耗部件、接地框、蓄电部、受电线圈、和整流平滑部。接地框与
等
离...
永岛望
吉越大祐
山形邦彦
等离子体
处理
装置
本发明的
等离子体
处理
装置包括馈电线圈、受电线圈、至少一个金属壳
体
和至少一个铁氧
体
部件。馈电线圈设置在
等离子体
处理
腔室的外部。受电线圈与蓄电部电连接,能够通过电磁感应耦合从馈电线圈接收电功率。至少一个金属壳
体
能够提供屏蔽空...
永岛望
吉越大祐
山形邦彦
等离子体
处理
装置
本发明的
等离子体
处理
装置包括馈电线圈、受电线圈和至少一个驱动系统。馈电线圈设置在
等离子体
处理
腔室的外部。受电线圈与蓄电部电连接,能够通过电磁感应耦合从馈电线圈接收电功率。至少一个驱动系统能够使馈电线圈和受电线圈中的至少一...
永岛望
吉越大祐
山形邦彦
等离子体
处理
装置
本发明提供一种能够获得均匀的
等离子体
空间的
等离子体
处理
装置。
等离子体
处理
装置包括:
处理
容器、载置台、遮护部件、开口用的可升降的闸门、第1驱动部和第2驱动部。
处理
容器具有侧壁,在该侧壁形成有被
处理
体
的搬入搬出用的输送通路。...
砂金优
等离子体
处理
装置及方法
本发明提供能够在晶圆键合工序或基板键合工序之前通过
等离子体
对晶圆或基板的表面进行前
处理
的
等离子体
处理
装置及方法,可以包括:
处理
室,内部形成有用于容纳晶圆或基板的容纳空间;
等离子体
发生装置,为了在晶圆键合工序或基板键合工序...
姜知惠
刘永俊
金是勋
等离子体
处理
装置
提供一种能够调节
离子
鞘层的厚度分布的技术。本公开的
等离子体
处理
装置包括:
等离子体
处理
腔室;配置于所述
等离子体
处理
腔室内的基片支承部;配置于所述
等离子体
处理
腔室的上方的天线;源RF信号生成部,其与所述天线电连接,构成为能够...
松本直树
利用
等离子体
处理
基板的装置
依据本发明的实施例的利用
等离子体
处理
基板的装置,包括:腔室,形成被供应
处理
气
体
的内部空间;基板固持器,设置在上述内部空间中以支持基板;介电窗,位于上述基板固持器上部;至少一个天线,设置在上述介电窗外侧,以便由供应至上述内...
崔伦硕
等离子体
处理
装置和蚀刻方法
本发明的
等离子体
处理
装置包括:
等离子体
处理
腔室;包括下部电极、静电吸盘和边缘环的基片支承
体
;配置在基片支承
体
的上方的上部电极;向上部电极或下部电极供给生成源RF电功率的生成源RF电源;向下部电极供给偏置电功率的偏置电源;...
鸟井夏实
高山航
铃木贵幸
加藤宽基
一种
等离子体
处理
装置和
处理
方法
本发明公开了一种
等离子体
处理
装置及
处理
方法,包括一反应腔,所述反应腔包括:进气装置,用于向所述反应腔输送清洁气
体
;射频电源,用于将所述清洁气
体
解离为清洁
等离子体
;清洁晶圆,具有第一直径;静电吸盘,用于承载所述清洁晶圆,具...
周艳
倪图强
用于自下而上生长的氮
等离子体
处理
一种形成半导
体
装置结构的方法包括在至少一个特征内形成成核层。所述方法包括将成核层暴露于氮
等离子体
处理
。氮
等离子体
处理
优先
处理
顶场和侧壁,同时留下实质上未
处理
的底表面以促进自下而上的金属生长。
杨宗翰
亓智敏
高勇谦
汪荣军
徐翼
雷雨
高兴尧
许智勋
岑羲
雷伟
岳诗雨
张爱西
吴凯
唐先敏
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张迎晨
作品数:511
被引量:66
H指数:4
供职机构:中原工学院纺织学院
研究主题:纳米铝粉 薄膜太阳能电池 细菌纤维素 纤维 纱线
杨建忠
作品数:298
被引量:1,137
H指数:17
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邱夷平
作品数:251
被引量:374
H指数:9
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吴红艳
作品数:445
被引量:53
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刘必前
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