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利用反应磁控溅射制备薄膜的工艺调试方法
本发明提供了一种利用反应磁控溅射制备薄膜的工艺调试方法，该方法包括：步骤一，根据靶材表面的电弧放电情况，确定反应磁控溅射的目标工作功率和工作气体的目标流量；步骤二，基于目标工作功率和工作气体的目标流量，在辅助源的不同功率...
霍永恒李珂宇钟东勳潘建伟
利用反应磁控溅射制备薄膜的工艺调试方法
本发明提供了一种利用反应磁控溅射制备薄膜的工艺调试方法，该方法包括：步骤一，根据靶材表面的电弧放电情况，确定反应磁控溅射的目标工作功率和工作气体的目标流量；步骤二，基于目标工作功率和工作气体的目标流量，在辅助源的不同功率...
霍永恒李珂宇钟东勳潘建伟
一种用于反应磁控溅射的反应气体控制系统及调试方法
本发明公开了一种用于反应磁控溅射的反应气体控制系统及调试方法，属于半导体制造技术领域。用于反应磁控溅射的反应气体控制系统，包括多管路气体流量控制系统和反应气体分流器；多管路气体流量控制系统包括管路和n级阀门，反应气体分流...
许磊 宋永辉 刘超 姜颖
一种改善反应磁控溅射沉积稀土镍酸盐薄膜均匀性的方法
本发明涉及磁控溅射工艺技术领域，具体涉及一种改善反应磁控溅射沉积稀土镍酸盐薄膜均匀性的方法，包括以下步骤：调整Ni靶材朝向基片的偏转角度进行磁控溅射以沉积薄膜，获取沉积薄膜中Ni元素的含量数据；对Ni元素的含量数据进行分...
张祯乔煦容孙嘉辉周鑫梁晓露
一种改善反应磁控溅射沉积稀土镍酸盐薄膜均匀性的方法
本发明涉及磁控溅射工艺技术领域，具体涉及一种改善反应磁控溅射沉积稀土镍酸盐薄膜均匀性的方法，包括以下步骤：调整Ni靶材朝向基片的偏转角度进行磁控溅射以沉积薄膜，获取沉积薄膜中Ni元素的含量数据；对Ni元素的含量数据进行分...
张祯乔煦容孙嘉辉周鑫梁晓露
非反应磁控溅射制备高熵碳化物太阳能选择性吸收涂层
本发明涉及一种非反应磁控溅射制备高熵碳化物太阳能选择性吸收涂层，该涂层具有双层结构，由抛光不锈钢片构成的吸热体基底、高熵合金碳化物构成的吸收层和Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>构成的减反射层组成；吸...
高祥虎 何成玉 周卓浩 赵鹏 刘宝华刘刚
发动机气缸套内腔真空反应磁控溅射镀膜装置及方法
本发明公开了一种发动机气缸套内腔真空反应磁控溅射镀膜装置，包括：真空溅射室、气缸套支座、磁控阴极结构和运动控制机构；所述气缸套支座固定于所述真空溅射室底部；所述运动控制机构安装于所述真空溅射室顶部，并与所述磁控阴极结构连...
崔岸郝裕兴张睿刘芳芳陈宠孙文龙程普
一种直流反应磁控溅射制备氮化铝单晶衬底的方法
本发明涉及半导体材料领域，尤其涉及一种直流反应磁控溅射制备氮化铝单晶衬底的方法，包括：提供一金属基底，使用化学试剂清洗、吹干；将金属基底放入直流磁控溅射沉积腔室，沉积晶体结构为面心立方的金属，形成金属层；利用直流磁控溅射...
姜平杨军孔玮
一种用于制备氮氧化硅薄膜的反应磁控溅射方法
本申请公开了一种用于制备氮氧化硅薄膜的反应磁控溅射方法，涉及薄膜沉积制备技术领域，本发明通过调节氩气流量控制启辉气压，间接控制等离子体离子密度，从而调节沉积速率，在沉积速率确定的前提下，可以通过调节沉积时间来控制膜厚。在...
尹志军周昊珉王海超
基于混频脉冲反应磁控溅射制备的热敏薄膜
本发明公开了基于混频脉冲反应磁控溅射制备的热敏薄膜，涉及氧化物热敏薄膜技术领域，所述基于混频脉冲反应磁控溅射制备的热敏薄膜是以稀土元素钒作为掺杂剂制备；所基于混频脉冲反应磁控溅射制备的热敏薄膜包括衬底层和热敏薄膜层，所述...
杜建林 袁秋雁 毛敏 左元呈 文朝军 李明
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杨德仁
作品数：987被引量：902H指数：15
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作品数：722被引量：1,152H指数：18
供职机构：浙江大学
研究主题：ZNO 脉冲激光沉积法 ZNO薄膜 晶体薄膜 脉冲激光沉积
闻立时
作品数：334被引量：1,411H指数：19
供职机构：中国科学院金属研究所
研究主题：电弧离子镀 磁控溅射 脉冲偏压 脉冲偏压电弧离子镀 靶材
马向阳
作品数：252被引量：223H指数：7
供职机构：浙江大学
研究主题：欧姆接触电极 直拉硅 直拉硅单晶 氧沉淀 电致发光
陈培良
作品数：29被引量：1H指数：1
供职机构：浙江大学
研究主题：欧姆接触电极 硅器件 直流反应磁控溅射 硅基 电致发光