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适于化学沉积装置扩散器的吹扫设备
本发明公开了一种适于化学沉积装置扩散器的吹扫设备,包括对布置的两个吹扫机器人,吹扫机器人包括用于对扩散器进行吹扫的喷嘴和用于控制喷嘴进行移动的位置调节装置。本发明适于化学沉积装置扩散器的吹扫设备,可以提高扩散器...
金卫明朱传兵亓露宋微张翔
适于化学沉积装置扩散器的吹扫设备
本实用新型公开了一种适于化学沉积装置扩散器的吹扫设备,包括对布置的两个吹扫机器人,吹扫机器人包括用于对扩散器进行吹扫的喷嘴和用于控制喷嘴进行移动的位置调节装置。本实用新型适于化学沉积装置扩散器的吹扫设备,可以提...
金卫明朱传兵亓露宋微张翔
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适于化学沉积装置扩散器的吹扫设备
本发明公开了一种适于化学沉积装置扩散器的吹扫设备,包括对布置的两个吹扫机器人,吹扫机器人包括用于对扩散器进行吹扫的喷嘴和用于控制喷嘴进行移动的位置调节装置。本发明适于化学沉积装置扩散器的吹扫设备,可以提高扩散器...
金卫明朱传兵亓露宋微张翔
化学沉积装置和利用该装置制造半导体器件的方法
本发明的实施例提供了一种用于制造半导体器件的方法,包括在衬底上形成晶体管。从化学沉积(CVD)装置的喷头提供前体气体以形成覆盖晶体管和衬底的接触蚀刻停止层(CESL)。喷头的温度控制在约70℃至约100℃的范围内以控...
郭人华谢忠儒杨仁豪
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化学沉积系统及其操作方法
化学沉积(CVD)系统包括底室、上室、工件支撑件、加热器和至少一个屏蔽板。上室存在于在底室上方。室间隔限定在上室和底室之间。工件支撑件配置为在室间隔中支撑工件。加热器配置为对工件应用热量。屏蔽板配置为至少部分地为底...
罗谚展赖以方吕伯雄刘定一廖锡文许凯翔谢政辉林贤辉徐瑞甫吴成宗
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化学沉积设备
本发明提供了化学沉积设备。公开了化学沉积(CVD)设备。该CVD设备包括处理腔室、基座、辅助支承部件、气体喷射部件和荫罩框架。基座可安装在所述处理腔室中,用于支承和加热母基板。辅助支承部件可以按四角形框架形式安装...
朴昇澈金熙烈
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化学沉积工具及其操作方法
本发明提供了一种化学沉积(CVD)工具,包括处理腔室、远程等离子体系统、第一气体源、第二气体源、第一气体通道和第二气体通道。远程等离子体系统连接至处理腔室。第一气体通道连接第一气体源、远程等离子体系统和处理腔室。第二...
李建达洪本立石玉山
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化学沉积装置和利用该装置制造半导体器件的方法
本发明的实施例提供了一种用于制造半导体器件的方法,包括在衬底上形成晶体管。从化学沉积(CVD)装置的喷头提供前体气体以形成覆盖晶体管和衬底的接触蚀刻停止层(CESL)。喷头的温度控制在约70℃至约100℃的范围内以控...
郭人华谢忠儒杨仁豪
化学沉积系统及其操作方法
化学沉积(CVD)系统包括底室、上室、工件支撑件、加热器和至少一个屏蔽板。上室存在于在底室上方。室间隔限定在上室和底室之间。工件支撑件配置为在室间隔中支撑工件。加热器配置为对工件应用热量。屏蔽板配置为至少部分地为底...
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化学沉积设备
本发明提供了化学沉积设备。公开了化学沉积(CVD)设备。该CVD设备包括处理腔室、基座、辅助支承部件、气体喷射部件和荫罩框架。基座可安装在所述处理腔室中,用于支承和加热母基板。辅助支承部件可以按四角形框架形式安装...
朴昇澈金熙烈
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靳九成
作品数:102被引量:200H指数:8
供职机构:湖南大学
研究主题:金刚石薄膜 金刚石 防锈油 化学气相沉积 天文学
陈宗璋
作品数:172被引量:998H指数:17
供职机构:湖南大学化学化工学院
研究主题:氧化锆 金刚石薄膜 C_ 电沉积 氟化石墨
唐璧玉
作品数:25被引量:34H指数:4
供职机构:湘潭大学
研究主题:金刚石薄膜 化学气相沉积 金刚石 化学汽相沉积 CVD
周之斌
作品数:71被引量:65H指数:5
供职机构:上海交通大学
研究主题:太阳电池 透明导电薄膜 氮化碳薄膜 纳米硅薄膜 光伏材料
季天仁
作品数:19被引量:34H指数:4
供职机构:电子科技大学物理电子学院
研究主题:微波等离子体 化学汽相沉积 CVD 微波化学 场致发射